第178章 铁幕下的宝藏

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金属镂空模板,贴在未干的漆面上,换了一把白色的喷枪。
    “哧——”
    白色的雾气散去。
    几个醒目的汉字和英文出现在木箱上。
    【西园寺物流/S.A.LOgiStiCS】
    【目的地:东京/TOkyO】
    “动作快点。货运包机的起飞时间是四点三十分。”
    汉斯看了一眼手表,沉声催促道。
    “哐当。”
    叉车的钢叉准确地插入木箱底部的托盘孔。
    柴油发动机发出轰鸣。
    沉重的木箱被缓缓抬起,向着不远处那架腹舱大开的波音747货机驶去。
    汉斯看着那些装满废旧抛光机底座的木箱消失在货机庞大的阴影里。
    这些货物不再属于任何国家。
    它们被贴上了财阀的标签,即将径直飞向亚洲。
    ……
    三天后。
    伦敦。
    西园寺集团欧洲分部,顶层安全屋。
    窗外下着绵绵的伦敦雨。
    灰色的雨丝密集地敲打着巨大的落地玻璃窗,水痕蜿蜒流下,模糊了远处的泰晤士河与大本钟的轮廓。
    安全屋内,壁炉里的橡木柴火正燃烧着。
    “噼啪。”
    木柴爆裂,火光在昏暗的房间里跳跃,驱散了英伦半岛的那种湿冷。
    克劳斯·韦伯换上了一身崭新的粗花呢西装,坐在壁炉旁的切斯特菲尔德真皮沙发上。
    藤田刚推开沉重的橡木门,走了进来。
    他走到沙发旁,将一份传真件递给韦伯。
    “韦伯博士。您的两名学生,迪特和弗兰克,已经乘坐昨晚的航班抵达东京。目前安置在港区的高级公寓内,一切安全。”
    韦伯的双手猛地抓紧了那张传真纸。
    他逐字逐句地看着上面的确认信息,紧绷了数日的神经,在这一刻彻底放松下来。
    一直挺直的脊背缓缓靠向沙发靠背,胸膛发出了一声长长的叹息。
    安全了。
    人都安全了。
    皋月站在落地窗前,背对着房间。
    她穿着一件深蓝色的丝绒长裙,手里端着一只骨瓷茶杯。
    红茶的香气在空气中弥漫。
    “西园寺小姐。”
    韦伯抬起头,看着那个纤细的背影。
    他的声音很低,透着一股孤注一掷的决绝。
    “有一件事,我必须向您坦白。”
    皋月没有转头,依然看着窗外的雨景。
    “请讲。”
    韦伯深吸了一口气。
    “您买下的那十台废旧抛光机。它们的底座是中空的。”
    房间里只有壁炉燃烧的声音。
    韦伯的手指攥紧了裤子的布料。
    “我和我的学生,拆开了检修盖板。”
    “卡尔·蔡司耶拿工厂里,关于极紫外光刻镜头的前置光学设计微缩胶卷。还有……特种光学玻璃的精密化学配方参数。”
    “我们用防水油纸和铅箔把它们包裹起来,塞进了铸铁底座的空腔里。”
    “里面灌满了黑色的废机油和铁砂,重新封死了螺栓。”
    韦伯一口气说完,胸口剧烈地起伏着。
    他交出了最后的底牌。
    他交出了一整个国家半个世纪以来的光学工业结晶。
    这是知识分子的自尊,也是他向这位新雇主呈上的最终投名状。
    他不希望自己引以为傲的知识随着那个国家一起腐烂。
    窗前。
    皋月静静地站着。
    端着骨瓷茶杯的右手,食指在杯柄上极其细微地停顿了一秒。
    杯中琥珀色的茶水表面,荡开了一圈极小的涟漪。
    微不可察。
    这可真是……意外之喜。
    极紫外光刻镜头的前置设计,特种光学玻璃的化学配方……这些都是关键的技术。有了韦伯所说的这些,那个计划就能提前了。
    涟漪平息。
    皋月缓缓转过身。
    火光映照在她的侧脸上,勾勒出优雅而平静的轮廓。
    她的嘴角挂着一丝恬淡的微笑。
    “韦伯博士。”
    “您为这些废铁增加的附加值,足够买下半个东京的半导体生产线。”
    她举起茶杯,向韦伯微微致意。
    “无论出于何种动机,西园寺家都极其偏爱您这种……懂得主动为集团攫取超额利益的聪明人。”
    ……
    ……
    ……
    关于文中两项技术出现的合理性解释(字太多,放不进作者说,所以只能放在章末,不过放心,正文是足有4500字的,不会冒充正文字数):
    现实中,ASML的光刻机技术属于商业机密,但他们确实与德国卡尔·蔡司有密切的合作。所以这些技术出现在东德的主要逻辑是:
    在二战结束后的冷战格局下,卡尔·蔡司耶拿工厂始终作为整个华约组织的绝对光学中枢存在。这里的科学家背靠庞大的举国体制,承担着苏联航天与军工最极端的研发任务。为了制造穿透大气层的间谍卫星镜头,为了研发军用高能激光的反射镜阵列,东德学者彻底抛弃了西方企业必须顾及的成本控制与商业变现考量。他们将海量的资源倾注于基础光学材料、极紫外波段的理论推演以及特种玻璃的化学配方上,进而在图纸和实验室里,提前触碰到了人类光学的物理极限。
    在半导体制造领域,光刻机的极限精度完全取决于其内部的光学反射系统。韦伯带出的“极紫外光刻镜头前置设计”,从物理理论层面规划了芯片向个位数纳米制程突破的路径。同时带出的“特种光学玻璃配方”,则为制造能够承受极紫外光轰击、且表面平整度达到原子级别的镜片提供了材料学基础。现实世界中,垄断全球极紫外光刻机市场的霸主ASML,其光学系统唯一的独家供应商正是德国卡尔·蔡司。这就从底层逻辑上证明,冷战极端体制下在东德孕育出的这两项超前光学结晶,极有可能就是ASML至今仍不可逾越的核心技术壁垒。
    当然,以上的推论都只是猜测,是在文中背景下最合乎逻辑的解释“为什么这些技术会出现在东德”以及“这些技术是ASML技术垄断的关键”这两个问题。如果各位还有不同的见解,欢迎讨论。
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