第201章 51区的脑补闭环了（1w）

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目标是制造一块包含多个电晶体丶电阻和电容的单片集成电路。
    其中包括了矽材料提纯丶平面工艺丶光刻丶刻蚀和互连等技术。
    而且此时的华国缺乏精密半导体制造设备，光刻机和晶圆切割机都很缺乏。
    最开始大家只能使用锯子手工切割矽片，并通过人工抛光达到所需平整度。
    光刻工艺需要高精度掩模和曝光系统更是只能依靠自制设备。
    「守觉，这块矽片的表面粗糙，刻蚀不均匀。我们的光刻设备精度不够。」
    「是的，我们只能靠手工调整掩模和曝光时间。必须再试几次。」
    大家都深知设备限制，不得不自力更生。
    最开始团队只能自制光刻掩模，通过反覆试验优化曝光和显影工艺。
    设计最简单的光学系统，利用现有显微镜改装，勉强实现微米级图案化。
    这样搞，无论是良率还是稳定性都特别差。
    好在东德的合作很快到来，就像一阵春风，东德在光学仪器上，帮助他们快速解决了原本无法解决的关卡。
    一个接一个的克服，能做到微米级的步进式光刻机打造出来后，晶片印刷上的难题都迎刃而解。
    按照原历史，华国本来也在1965年，由华国科学院微电子研究所和申海光学仪器厂一起合作，研发出了华国第一台65型接触式光刻机。
    《1956-1967年科学技术发展远景规划纲要》里关于半导体技术制定的计划，几乎都实现了。
    只是现在，因为有了更具体的目标。
    65式这种只是基于研发的机器是肯定无法满足。
    华国和东德合作，造出来要更符合实际生产需要，已经和原本1985年才搞出来的分步光刻机相差不大了。
    剩下的就是高纯度的矽，国内矽片常含杂质。
    进口高纯矽受限。
    从区域精炼工艺到炉子改造，再到温度精准监控。
    这些都无法依赖东德，只能靠自己。
    树莓派在这个过程中起到了巨大作用。
    改进后的区域精炼设备，如果只考虑温度控制系统，这套基于树莓派计算打造的温度控制系统，比德州仪器的还要更先进。
    不过越是研发，华国科研人员内心的紧迫感就更甚。
    毕竟整个51区知道树莓派存在的人里，从上到下，没有一个会觉得树莓派只有华国有。
    大家都很清楚，阿美莉卡也有，而且只会更多。
    在这样的想法下，他们都以为自己只是接近阿美莉卡最先进水平。
    压根想不到，他们基于可携式计算机打造的整套技术，有不少都站在了世界先进水平。
    光刻丶刻蚀和互连工艺是集成电路制造的核心，过去华国缺乏相关经验。
    光刻掩模对准困难，刻蚀深度难以控制，金属互连常出现断路或短路。
    DTL电路逻辑功能验证了，但良率太低，互连问题始终无法解决。
    金属沉积的均匀性不够。
    图案的精度不够。
    他们几乎是在和时间赛跑。
    最终，终于在去年年底的时候，成功在一平方厘米的矽片上制造出包含七个电晶体丶一个二极体丶七个电阻和六个电容的集成电路，采用二极体-电晶体逻辑设计。
    而现在，整个51区要检验的是XM-01整体。
    简朴的实验室中，钱院长和华罗庚作为代表受邀审视新研发的XM-01可携式计算器。
    实验室的木桌上摆放着XM-01，一台约15厘米长丶8厘米宽丶3厘米厚的灰色塑料设备，配备红色LED显示屏和35个按键。
    按键上标注着数字丶运算符以及「sin」丶「cos」丶「ln」等数学符号。
    旁边是一迭技术文档，记录着研发过程中的试验数据。
    钱院长拿起XM-01，仔细端详其按键布局，红色LED显示屏在灯光下微微闪烁。
    他转向王守武，语气中带着期待：「守武，这台XM-01据说能媲美西方的先进计算器，能否展示一下它的功能？」
    王守武点头，打开设备，显示屏亮起，显示「0」。
    他自信道：「当然，院长。
    这台计算器不仅能进行加减乘除，还支持三角函数丶对数和指数运算。我们来计算30度的正弦值。」
    他按下「30」键，然后按「sin」键，显示屏迅速显示「0.50」。
    华罗庚推了推眼镜，专注地观察结果，问道：「结果准确，反应很快。能否再试试更复杂的运算，比如e的2次方？」
    王守武输入「2」，然后按「e^x」键，显示屏显示「7.39」。
    华罗庚微微点头：「与理论值吻合，小数点后两位的精度，足够满足当前需要了。」
    王守武接着说：「如果

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